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光學鍍膜技術

2017-9-15 11:55

海泰新光擁有電子束蒸發(E-Beam)、離子束輔助沉積(IAD)、磁控濺射(Sputtering)和離子束濺射(IBS)等鍍膜技術,能夠針對產品的實際應用需求,為客戶制訂最經濟有效的鍍膜方案。

這四種鍍膜技術各有特點,下表列舉了這些技術對各類指標的影響: 

 指標

電子束蒸發

離子束輔助沉積

磁控濺射

離子束濺射

 沉積速率

10 Å/sec

10 Å/sec

5 Å/sec

3 Å/sec

 每爐鍍制面積

1256~4400cm2

1256~4400cm2

> 4400cm2

650~1250cm2

 抗激光損傷閾值

5 to 30 J/cm2,

20ns

5 to 30 J/cm2,

20ns

10 J/cm2,

20ns

>40 J/cm2,

20ns

 吸收

>100ppm

>50~100ppm

<50ppm

<2ppm

 最大膜層數量

40

60

100

200

 表面粗糙度

<10Å RMS

<8Å RMS

<5Å RMS

<1Å RMS

 致密性

多孔

緊密

致密

非常致密

 牢固度/抗磨損

非常好

超好

 溫度漂移

較大

較小

很小

幾乎無

 內應力

<20MPa

<50MPa

<100MPa

<100MPa

* 以上數據僅為行業平均數據,并不代表任何特定廠商或特定設備,可能存在例外。

所屬類別: 技術聚焦

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